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·聚焦:人工智能、芯片等行业欢迎各位客官关注、转发前言:由于半导体制造对图形保真度和套刻精度的极高标准,步进纳米压印技术必须依赖高硬度石英模板。这导致该技术对压印环境洁净度、压力控制、模板与衬底平整度、工艺稳定性及专用材料体系等方面设定了极为严苛的条 ...
NIL 技术的日常缺陷稳定性满足 3D NAND 大规模生产水平。 纳米压印光刻 (NIL) 作为一个概念已经存在了一段时间,但该技术一直受到缺陷、覆盖和吞吐量等挑战的困扰,不过预计五年前不会产生商业影响,有影响也将主要从存储芯片开始。
On3 NIL 估值是一项业内领先指数,它是一项专有算法,它为高中和大学运动员设定了标准的市场估值。 主要影响运动员NIL值的因素包含表现、影响力 ...
来自MSN10月
Canon NIL微影设备首度出货,可生产2纳米 - MSN
Canon 26日发布新闻稿宣布,采用“NIL”技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备“FPA-1200NZ2C”将在当日出货给位于美国德州的半导体联盟 ...
11 天
格隆汇 on MSN璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机 支持10nm线宽
格隆汇8月5日|璞璘科技PRINANO今日宣布其在8月1日成功向一家国内特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻(NIL)系统PL-SR。璞璘在PL-SR系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈,实现了纳米级的压印膜厚,达到了 ...
[注:NIL指的是NCAA中的“姓名、形象及肖像权”(Name, Image and Likeness,简称NIL)政策。NIL允许大学生运动员利用自己的姓名、形象和肖像在遵守NCAA ...
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